光掩膜版用低輕基高純石英玻璃的研究

作者：陳婭麗,吳椿烽,錢宜剛,湯明明,陳京京,顧鈴鈴,繆麗華

摘要：介紹了采用不同原材料由一步法工藝所制備的石英玻璃的方法及其光學性能與雜質含量,基于羥基含量高、尺寸小等缺點,通過優化工藝,以兩步法(沉積、脫羥燒結)制備的石英玻璃更具有優良的性能。檢測結果表明,兩步法氣相沉積工藝制備的石英玻璃具有更低的羥基含量≤1×10^(-6),以及良好的透過率85%以上,完全滿足高端光電技術領域的應用需求。

發文機構：中天科技精密材料有限公司

關鍵詞：氣相沉積工藝CVD法等離子沉積工藝羥基石英玻璃vapor deposition processCVDplasma deposition processhydroxyl groupquartz glass

分類號： TQ171[化學工程—玻璃工業]