二氧化鈦光催化氧化-離子色譜法測定液晶材料中的氟含量

作者：章麗,袁鵬,馮永勝

摘要：以二氧化鈦光催化氧化為預處理手段,測定液晶材料中氟含量該方法是否可行。利用二氧化鈦光能夠有效處理含氟有機化合物,并使其完全降解的機理,以二氧化鈦作為預處理手段對含氟液晶化合物進行有機破壞,使碳氟鍵斷裂,在對生成的F-用離子色譜法進行測定。二氧化鈦催化劑用量為0.1g/L時,可達到最佳的光催化降解效果,最佳降解時間為50分鐘。F-峰面積與其含量在0.005至1mg/g范圍內呈良好的線性關系,檢出限為2.1μg/g。測得3種液晶材料的氟含量分別為7.6,18.1及28.4mg/g,不同濃度的加標回收率為86.0%至118.0%,相對標準偏差RSD(n=5)在3.2%至5.7%之間。該方法能夠有效測定含氟有機物。

發文機構：衢州英特高分子材料有限公司

關鍵詞：二氧化鈦光催化氧化離子色譜法氟含量

分類號： R28[醫藥衛生—中藥學]