幾種石墨層間化合物溶出伏安行為的研究

作者：陳劍平,陳宗璋

摘要：本文首次將突出伏安法用于研究Ｈ２ＳＯ４＋ＨＮＯ３；Ｈ２ＳＯ４＋ＫＭｎＯ４；Ｈ２ＳＯ４＋ＨＮＯ３＋ＦｅＣｌ３＋ＫＭｎＯ４等反應介質中制取石墨層間化合物時的溶出伏安行為，發現化學法合成的ＧＩＣ與電化學法合成的ＧＩＣ溶出伏安說線圖在反應時間短時相似，隨著反應時間增長溶出伏安譜線圖則有較大的差異等實驗現象。

關鍵詞：石墨層間化合物溶出伏安伏安法

分類號： O657.14[理學—分析化學][理學—化學]TQ165[化學工程—高溫制品工業]