碳化硅質高溫陶瓷膜的低溫燒成

作者：張久美,程之強,薛友祥,趙世凱,唐鈺棟,宋濤,李小勇,李杰

摘要：本文以碳化硅骨料、章村土系結合劑和核桃殼粉為原料,通過等靜壓成型工藝和低溫燒結制備了碳化硅質高溫陶瓷膜材料。研究了成型壓力對坯體強度以及成型壓力和燒成溫度對膜材料強度、孔徑、氣孔率和透氣阻力的影響。結果發現,當成型壓力為70 MPa、燒成溫度為1250~1270°C時,制品綜合性能較優。

發文機構：山東工業陶瓷研究設計院有限公司

關鍵詞：低溫燒成碳化硅高溫陶瓷膜Low temperature firingSiCHigh temperature ceramic membrane

分類號： TQ174[化學工程—陶瓷工業]