三氟化硼的制備及純化技術研究進展

作者：繆光武,白占旗,曾群,張金柯,何雙材,劉武燦

摘要：高純三氟化硼是半導體離子注入用的重要摻雜離子源,在電子工業中有著廣泛的應用。介紹了三氟化硼常用的制備方法及其優缺點,列舉了三氟化硼的純化方法。在實際生產過程中,企業可根據自身的情況選擇合理的生產路線,結合三氟化硼粗品的雜質種類,選擇合適的純化方法,得到高純度的三氟化硼產品。

發文機構：浙江省化工研究院有限公司

關鍵詞：三氟化硼制備純化boron trifluoridesynthesispurification

分類號： TQ2[化學工程—有機化工]