作者:郝海健,魏占玉,何宏林,劉力強,郭玲莉
摘要:獲取高精度斷層面形貌對微觀斷層面形貌與地震成核、破裂擴展及終止的相關性研究具有重要意義。為了提高斷層面形貌的測量精度、克服現有測量方法的不足,我們研發了一套具有自主知識產權的μm級形貌測量系統。經過測試,該新型μm級形貌測量系統具有以下特征:1)其平面定位(x軸與y軸方向)精度優于3. 5μm,垂向測量精度優于4. 5μm,水平分辨率可達0. 62μm,垂向分辨率為0. 25μm;2)該系統在垂向發射激光束,可測量形貌面中大傾角的凹谷區域,避免產生數據空白,可獲得完整的形貌測量結果,具有較強的陡峭表面測量能力;3)該系統具有較大的測量量程(30cm×30cm),測量大尺度樣品時,可避免多次測量數據的配準拼接以及由此帶來的誤差。運用該形貌測量系統,可對實驗斷層面進行掃描并獲得高分辨率的形貌數據,能夠滿足μm級尺度上的形貌分析要求。
發文機構:中國地震局地質研究所 中國海洋大學
關鍵詞:形貌測量系統斷層面精度分析topography measurement systemfault surfaceprecision analysis
分類號: P542[天文地球—構造地質學]